钕铁硼化学成分分析（ICP原子发射光谱分析）

钕铁硼材料的化学成分分析一般包括：

1-原材料的化学成分分析，包括稀土金属原料的化学成分，还包括工业纯Fe、B-Fe合金和其他金属，如Ga、Al、Nb、Zr等的化学成分；

2-磁体的化学成分，未知的磁体或磁体出现问题时则需要进行分析，若产品质量正常，则不必进行分析。磁体的化学成分包括稀土金属元素，如Nd、Pr、Ce、Dy、Ho、Gd、Tb等，和其他金属元素，如Cu、Al、Nb、Zr、Ga、Co、Ti等；

3-其他非金属元素的含量分析，如氢、氧、碳等元素含量分析。

本文我们主要介绍原材料和磁体的成分分析,钕铁硼的成分分析与钢铁材料、有色金属材料的成分分析相同，包括传统的分析方法和现代物理分析法两种。

传统分析方法是利用材料中某种元素与某种物质发生化学反应所产生的反应物的颜色、质量和容积变化来进行化学分析。这种方法费事费力且个人经验对分析结果有重大影响，在钕铁硼材料的质量监控中已很少应用。

现代物理分析法主要是利用某种元素原子中电子在不同壳层跳动时，发射的光谱谱线的波长和强度来分析材料中所含的元素和含量。现代物理分析方法主要是利用仪器来进行分析，可同时进行多种元素分析，分析速度快，但成本也较高。现代物理分析方法主要有3类：等离子光谱分析、原子吸收光谱分析、原子荧光光谱分析。在钢铁材料、稀土金属与化合物材料和稀土永磁材料的成分分析中较为通用的是等离子光谱分析。

ICP原子发射光谱分析

ICP发射光谱分析是电感耦合等离体（inductively coupled plasma，简称ICP）与原子发射光谱（atomic emission spectroscopy，AES）相结合的一种分析方法，简写为ICP-AES光谱分析，通过简化为ICP发射光谱分析。

1. 基本原理

发射光谱仪是根据被测元素的原子或离子，在光源中被激发而产生特征辐射，通过判断这些特征辐射的存在及其强度大小，对各个元素进行定性和定量分析。

ICP发射光谱分析过程主要分为三步，即发射、分光和检测。

利用等离子体发射光源（ICP）使式样蒸发气化、离解或分解成原子态，原子可能进一步电离成离子态，原子及离子在光源中激发发光；

利用光谱仪将光源发射的光分解为按波长排列的光谱；

利用光电器件检测光谱，按测定得到的波长对式样进行定性分析，按发射强度进行定量分析。

2. 可分析的元素与应用范围

元素周期表109种元素中，有74种元素可用ICP发射光谱仪来测量，它包括3d、4d、5d过渡金属和La系稀土金属，不能检测的元素有氟、氦、惰性气体元素、碳元素、氧、氮、氢和所有放射性元素。

对可测元素可做常量分析（0.x%~20%）、微量分析（0.00x%~0.0x %）、痕量分析（0.0000x%~0.000x %，但需分离与富集），但含量在30%以上的元素不能分析。

3. ICP发射光谱仪的类型

ICP发射光谱仪按激发类型和检测系统的不同，分为三大类：

3.1、电感耦合等离子体发射光谱仪（简称ICP），包括顺序扫描型、多道同时型、全谱直读型等几种

3.2、火花/电弧直读光谱仪，简称直读光谱仪，包括大型式和便携式两种

3.3、摄谱仪